1700C林德伯格/蓝M盒炉，由赛默费雪科学公司设计

箱炉（也称为灰烬炉）在现代研究和化学实验室中有许多应用。这些熔炉用于确定样品中的不可燃烧和非挥发性（灰分）材料的量。为了确定灰分量，将样品置于炉中，并在给定的时间内暴露于高温（通常高达1,100℃）。样品中的可燃和挥发性材料被烧掉并从炉中取出，通常用作气体。

在操作期间将炉子放入通风罩中以允许气体安全通风。炉子中的剩余材料在程序完成后完全由灰烬完全组成，在高温下不会被烧掉。该过程通常用于煤和石油焦炭灰化程序。

一个马弗炉用于许多相同类型的协议作为灰化炉。这些烤箱中的机械对流的使用将气流从排气罩中引导出来，这通常消除了将炉子放置在通风罩下的需要。

Muffle炉的常用应用包括诸如定影玻璃的高温应用，产生搪瓷涂层，陶瓷和焊接和钎焊制品。而且，用于加热元件的材料的进展，例如不易燃钼二硅化硅，现在可以生产高达1,800摄氏度（3,272华氏度）的工作温度，这促进了更复杂的冶金应用。

管炉用于合成和纯化化合物，主要是无机。这些炉子由圆柱形腔包括通过腔室外的一个或多个加热元件加热。腔的温度可达1,100°C。另外，管炉通常具有一个（或多个）加热腔，可以通过热电偶反馈来控制，将材料暴露于不​​同时间的不同温度。例如，需要在同一隔室内的多个温度区域的运输反应可以在管炉中进行。晶体的产生也由运输反应产生。

使用管式炉制备的材料的一个例子是超导体钇钡氧化铜(YBa2Cu3O7)，它是CuO、BaO和Y2O3的混合物。混合物在管式炉中用氧气以几百度加热，以帮助达到预期的效果。其他超导体则是根据它们各自的反应特性和控制标准，使用特定的管式炉“配方”来创造的。

其他因素将影响您对熔炉的选择，无论是冶金、半导体或化学工艺。最重要的是，您将需要选择一个为您的应用程序提供适当温度范围的炉。此外，许多实验需要引入用于运输过程的过程气体。如果您的应用程序需要惰性气体，您将希望选择一个提供升温梯度的炉。最后，需要确定炉子的配置:消声器、盒状或管状炉子都有各种形状和尺寸。