- 温度范围:500°C - 1500°C
- 容纳1。, 2。和3。外径加工管(客户提供)
- 碳化硅加热元件位于管的上方和下方,采用“R”型热电偶,以稳定温度
- 基于微处理器的PID可编程控制(比例,积分,微分)防止超调
箱炉(也称为灰炉)在现代研究和化学实验室中有许多应用。这些炉用于测定样品中不可燃和不挥发(灰)物质的数量。为了确定灰量,将样品置于炉中,并暴露在高温(通常高达1100°C)下一段时间。样品中的可燃和挥发性物质被燃烧掉并从炉中移出,通常是作为气体。
在操作过程中,炉子被放置在通风柜中,以保证气体的安全排放。在这一过程完成后,炉膛内的剩余材料完全由未在高温下燃烧掉的灰组成。此工艺常用于煤和石油焦的灰化程序。
一个马弗炉用于许多与灰化炉相同的协议。在这些烤箱中使用的机械对流引导气流从排气消声器排出,这通常无需将炉子置于通风柜下。
马弗炉的常见应用包括高温应用,如熔化玻璃,创建搪瓷涂层,陶瓷和焊接和钎焊物品。此外,用于加热元件的材料的进步,如不易燃的二硅化钼,现在可以产生高达1800摄氏度(3272华氏度)的工作温度,这有利于更复杂的冶金应用。
管式炉用于合成和提纯化合物,主要是无机化合物。这些炉由一个圆柱形的腔体组成,通过腔体外的一个或多个加热元件进行加热。腔体的温度可高达1100°C。此外,管式炉通常有一个(或多个)加热腔,可以通过热电偶反馈进行控制,使材料暴露在不同的温度下以适应不同的时间。例如,在同一隔间内需要多个温度区域的传输反应,可以在管式炉中进行。晶体的产生也源于输运反应。
使用管式炉制备的材料的一个例子是超导体氧化钇钡铜(YBa2Cu3O7),它是CuO、BaO和Y2O3的混合物。混合物在管式炉中使用氧气以几百度加热,以帮助达到预期的结果。其他超导体是使用特定的管式炉“配方”创造的,这取决于它们各自的反应特性和控制标准。
其他因素也会影响您对电炉的选择,无论是冶金、半导体还是化学工艺。最重要的是,您需要选择为您的应用程序提供合适温度范围的炉。此外,许多实验要求在输送过程中引入工艺气体。如果您的应用程序需要惰性气体,您将希望选择一个炉提供一个加热梯度。最后,需要确定炉子的配置:马弗炉、箱形炉或管状炉都有各种形状和尺寸。
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